RU | EN | ES

Очистка

28.01.2019


За счет ионной бомбардировки поверхность очищается физически, кроме того, возможно протекание химической реакции между газом и загрязняющим веществом. Частицы и молекулы загрязнителя переходят в газовую фазу, и отсасываются вытяжным устройством.

Цель процесса:

• удаление жиров, масел, окислов и силиконов;

• предварительная обработка перед микросваркой, пайкой или склеиванием;

• предварительная обработка металла перед нанесением лакового покрытия.
button